DC-EFM能够提供高分辨率的EFM结果。该技术由Park Systems公司获得专利，DC-EFM主动向悬臂梁施加交流电压偏压，并检测悬臂梁调制相对于所施加偏压的振幅和相位变化。DC-EFM能够监测调制的二次谐波，这可以与样品的电容进行比较，并从背景分子间力中增强电力信号。
在静电力显微镜（EFM）中，所研究的样品表面特性本质上是电性的，所使用的交互力将是带电探针与样品之间的静电力。然而，除了静电力之外，探针与样品表面之间总是存在范德华力。这些范德华力的大小随探针-样品距离的变化而变化，因此被用来测量表面形貌。因此，所获得的信号既包含由范德华力产生的表面形貌信息，也包含由静电力产生的表面电性质信息。EFM成像成功的关键在于从整个信号中分离出EFM信号，即关于表面电性质的信息。EFM模式可以根据用于分离EFM信号的方法进行分类。
Park AFM的增强型EFM（XE系列的可选功能）支持三种额外的EFM模式，它们是动态接触静电力显微镜（DC-EFM）、压电力显微镜（PFM）和开尔文探针力显微镜（KPFM）。DC-EFM由Park Systems在美国专利6,185,991下获得专利，而PFM与DC-EFM在相当大的程度上是相同的技术。KPFM也被称为表面电位显微镜。Park AFM的增强型EFM的示意图如图1所示。一个外部锁相放大器连接到Park AFM，有两个目的。一个目的是除了Park AFM控制器施加的直流偏压外，还向探针施加一个频率为（ω）的交流偏压。另一个目的是从输出信号中分离出频率（ω）的成分。这种能力是增强型EFM的核心优势，也是它与Park AFM标准EFM硬件的区别所在。
图3. Park AFM的动态接触EFM（DC-EFM）示意图。这种个性化的EFM功能由Park Systems专利提供。
DC-EFM是通过使用Park AFM的增强型EFM实现的一种模式，它在接触模式下运行，大大提高了空间分辨率和灵敏性检测度（见图3）。图4比较了通过DC-EFM（上排）和传统EFM（下排）获取的TGS单晶的形貌和表面电荷图像。使用传统EFM获取的EFM图像显示了形貌信号与图像的强烈耦合，而使用DC-EFM获取的图像则完全分离了形貌。DC-EFM的主要优势如下： Park AFM的增强型EFM示意图如图1所示。一个外部锁相放大器连接到Park AFM，有两个目的。一个目的是除了Park AFM控制器施加的直流偏压外，还向探针施加一个频率为（ω）的交流偏压。另一个目的是从输出信号中分离出频率（ω）的成分。这是增强型EFM的核心优势，同时使它与Park AFM的标准EFM硬件区分开来。
图4. (a) DC-EFM获取的TGS单晶的形貌图像；(b) DC-EFM获取的TGS单晶的表面电荷图像；(c) 传统EFM获取的TGS单晶的形貌图像；(d) 传统EFM获取的TGS单晶的表面电荷图像。
图5. (a) Domain switching behavior in ferroelectric materials. Creation of small domains of TGS by (b) positive applied voltage of 10 V, and (c) negative applied voltage of 10 V.